2024年11月7日，瑞士保罗谢勒研究所（Paul Scherrer Institute,Switzerland）Yasin Ekinci教授访问化学所，并作题为“Advancing the photolithography for more Moore”的分子科学前沿讲座。杨国强研究员主持讲座，郑企雨副所长为Ekinci教授颁发了“分子科学前沿讲座”荣誉证书。

Yasin Ekinci教授现任保罗谢勒研究所（Paul Scherrer Institute，PSI）X射线纳米科学和技术实验室负责人，曾任PSI微纳米技术实验室（Laboratory for Micro and Nanotechnology，LMN）负责人。他长期专注于使用短波长光子，尤其是极紫外（EUV）波段光子在纳米光刻和计量方法领域的研究工作。Ekinci教授曾获瑞士光学与显微镜学会青年研究学者奖（Young Investigator of Swiss Society for Optics and Microscopy）（2009年），目前是国际光学工程学会（SPIE）会士。

报告中，Ekinci教授详细介绍了极紫外（EUV）光刻技术面临的问题和挑战，以及该工艺对光刻胶等相关材料的更高要求，提出了针对性的解决策略。介绍了课题组在相关领域的研究进展，包括开发金属-有机光刻胶框架，搭建EUV干涉光刻平台（XIL-II）和如何实现5纳米半间距（Half-pitch）光刻分辨率等。报告结束后，师生们与Ekinci教授进行了深入的讨论和交流。

科技处 

2024年11月13日